CEO da Zeiss SMT prevê 15 anos para Pequim desenvolver equipamento EUV
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Ver gráfico e análise → - 1Frank Rohmund, CEO da Zeiss SMT, prevê que Pequim precisará de 15 anos para desenvolver equipamentos de litografia EUV
- 2Declaração do CEO da Zeiss SMT, fornecedora-chave de equipamentos EUV da ASML (ASML.AS), no palco da Semicon Taiwan
- 3Ele afirmou que controles adicionais de exportação apenas acelerariam a inovação da China
Este resumo em 3 linhas é uma síntese da reportagem abaixo.
Bloomberg Ver original ↗
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